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ODC技術

HCl ODCプロセスが提示するソリューション

この革新技術はティッセンクルップ・ウーデ・クロリンエンジニアズとそのパートナー、Covestro、インダストリエ・デノラにより開発されました。

その原理の基盤となるのは、最初に還元され、その後セルの陰極側で膜を通って移動し水素イオンと反応する酸素です。ODCでは、水素の生成が抑制され、通常の水素生成に対して動作電圧が約1ボルト低くなり、それによりエネルギーの削減が実現されます。

ODCの原理は陰極での酸素の還元に基づいています。還元された酸素は、その後、陽極室に供給された塩酸から生じる水素イオンとの反応によって水を形成します。ここで、この塩酸の塩素イオンは、陽極酸化によって塩素に変換されます。陰極での反応は電力効率がよく、従来の隔膜電解プロセスで見られるよりも低いセル電圧で発生します。

ODCプロセスは通常に約30%エネルギーを節約し、生産に伴う間接的な二酸化炭素排出をも削減します。隔膜プロセスとは異なり、水素は生成されないという点が挙げられます。ODCプロセスで形成される塩素の純度は極めて高いものです。

ティッセンクルップ・ウーデ・クロリンエンジニアズのHCl-ODC電解技術

  • 環境への責任をしっかりと意識し貴重な資源を大切に使用。
  • 隔膜電気分解(H 2生成なし)に比べ最大30%のエネルギー節約。
  • HCl&Cl 2市場価格や苛酷な市場状況の影響を受けずに企業活動。
  • 塩素の輸送のリスクを回避。
  • 塩酸中和、廃棄処分コストゼロ。
  • 幅広く適用可能で柔軟なプラント運営でMDI / TDIプロセスのニーズにしっかりと対応することができます。
  • この電解槽の設計はメンテナンスの柔軟性を最適化し、生産量の増大にも貢献することができます。
  • 腐食を招くような条件下でも高い堅牢性と耐久性。
  • ラボとテスト施設でのCovestroとの提携。
  • 実績のある信頼の技術

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